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潘继生
Jisheng PAN
硕士生导师
所在单位：机电工程学院
在职信息：在职
同专业硕导
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论文成果
(1) Qixiang Zhang, Jisheng Pan *, Xiaowei Zhang, Jiabin Lu, Qiusheng Yan. Tribological behavior of 6H–SiC wafers in different chemical mechanical polishing slurries. Wear[J]. 2021, 472-473(15) , 203649 SCI一区
发布时间：2021-03-05 点击次数：
是否译文：
否
下一条：(2) Jisheng Pan, Zhijun Chen and Qiusheng Yan. Study on the rheological properties and polishing properties of SiO2@CI composite particle for sapphire wafer. Smart Materials and Structures[J], 2020，29(11). 114003 SCI二区
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